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金融界2024年12月31日消息,国家知识产权局信息显示,甬矽电子(宁波)股份有限公司取得一项名为“薄膜沉积装置”的专利,授权公告号 CN 222226536 U,申请日期为 2024 年 5 月。
专利摘要显示,一种薄膜沉积装置,涉及半导体工艺设备技术领域。
该薄膜沉积装置包括晶圆平台和加热平台,晶圆平台靠近加热平台的一面设有容置槽,加热平台可拆卸连接于容置槽内,且加热平台与晶圆平台相向设置的一面呈面接触,加热平台用于对晶圆平台加热。
该薄膜沉积装置能够在加热装置发生损坏时便于维修,能够降低薄膜沉积装置的维修成本。
本文源自:金融界作者:情报员
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